Inline systém magnetrónového naprašovania
Inline magnetrónový naprašovací stroj je hlavne DC (alebo MF) magnetrónový naprašovací náter môže byť prispôsobený širokému spektru cieľov, ako sú: meď, titán, chróm, nehrdzavejúca oceľ, nikel a iné kovové materiály, ktoré môžu byť potiahnuté procesom naprašovania môže zlepšiť priľnavosť filmu, reprodukovateľnosť, hustotu, rovnomernosť a ďalšie charakteristiky.
- a.Základné vlastnosti a parametre
- b.horizontálna líniová štruktúra môže byť realizovaná súčasne potiahnutá na jednej strane
- c.efektívnosť výroby, najvyššie rýchlosti až 1 min / úder
- d.modulárny dizajn, jednoduchá údržba
- e.zrelosť procesu pokovovania, vysoký výnos
- f.DC magnetrónové naprašovacie katódy sa môžu líšiť v závislosti od požiadaviek zákazníka
- g.vákuový systém pozostáva z mechanickej pumpy, Rootsovej pumpy, difúznej pumpy (molekulárnej pumpy) Zloženie
- h.Veľkosť tela linky sa môže líšiť v závislosti od požiadaviek zákazníka
- 1) Materiály tela vákuovej komory použité SUS304, leštenie úpravy stien vákuovej komory, spracovanie leštiacich guľôčok sprejom na vonkajšiu stenu.
- 2) Použitie nezávislého posúvača medzi vákuovou komorou - klapkovým ventilom od seba, môže účinne odrezať a stabilizovať procesný plyn.V súčasnosti naša spoločnosť prijíma dizajn klapkového ventilu, tesní lepšie, odolnejšie ako súčasný bežný domáci klapkový ventil.
- 3) Prenos používa magnetické vedenie, chráni stabilitu pohonu.Pre každú rýchlosť celej výrobnej linky s motorovým pohonom VVVF je možné nastaviť rýchlosť chodu.
- 4) Elektrický riadiaci systém: Dotyková obrazovka a automatické ovládanie PLC, dialóg človek-stroj na dosiahnutie systému zobrazenia údajov, prevádzkových parametrov a riadiacej technológie
- 1) Konečný vákuový tlak: 6 × 1 0E-4 Pa
- 2) priemerný výrobný cyklus: podľa určeného produktu
- 3) Veľkosť držiaka substrátu: možno prispôsobiť podľa požiadaviek
- 4) Rovnomernosť filmu: ± 3% pokročilá technológia mobilného poľa výrazne zvýšila využitie cieľa
- Dizajn segmentového ohrievača prispieva k optimalizácii procesu.
Tu napíšte svoju správu a pošlite nám ju
